赫爾納供應(yīng)美國saes凈化器LS2

赫爾納供應(yīng)美國saes凈化器LS2

赫爾納供應(yīng)美國總部直接采購saes過濾器，原裝產(chǎn)品，貨期好，支持選型，為您提供一對一好的解決方案：赫爾納大連公司在中國設(shè)有10個(gè)辦事處，可為您提供好的維修服務(wù)。

公司簡介：

作為一家制造商合作推動技術(shù)持續(xù)進(jìn)步的公司，我們擁有基礎(chǔ)設(shè)施，包括戰(zhàn)略性布局的制造基地、研發(fā)設(shè)施和客戶支持。我們進(jìn)行基礎(chǔ)設(shè)施投資，使我們更接近有地區(qū)的客戶。我們技術(shù)的團(tuán)隊(duì)成員、設(shè)施和資源就在您需要的地方，可以幫助您解決技術(shù)。

saes凈化器產(chǎn)品名稱：

saes凈化器

Saes過濾器

saes凈化器產(chǎn)品型號：

LS2

SP/SN

HT

HTX

saes凈化器產(chǎn)品特點(diǎn)：

材料： 膜   聚四氟乙烯

 支架、外殼   肺動脈高壓

凈化能力：   金屬去除

凈化能力： 4.30 毫克當(dāng)量 1.18兆當(dāng)量 0.48毫克當(dāng)量

保留評級：15納米

saes凈化器產(chǎn)品應(yīng)用：

saes凈化器SP/SN 溶劑凈化器有效去除各種純、極性和非極性溶劑中的溶解和膠體金屬污染物，包括難以去除的酮類，如環(huán)己酮。結(jié)構(gòu)材料與多數(shù)有機(jī)光化學(xué)溶劑具有的化學(xué)兼容性,兩種不同的凈化介質(zhì)類型可在極性和非極性溶劑中去除金屬,與其他凈化器技術(shù)相比，UPE 凈化介質(zhì)可提供清潔度.

saes凈化器高效溶劑凈化器/過濾器為 45 nm 以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)中的關(guān)鍵柵極清潔 (FEOL) 應(yīng)用提供的金屬和顆粒去除效果.

saes凈化器HT 和 HTX 凈化器一體式凈化器/過濾設(shè)備，可在關(guān)鍵的去離子水清潔應(yīng)用中提供對金屬污染的保護(hù)。高效凈化器，為高達(dá) 80°C 的去離子水應(yīng)用而設(shè)計(jì)，saes凈化器有技術(shù)節(jié)點(diǎn)均具有的流速性能和污染物去除能力，促進(jìn)高溫下快速啟動和高產(chǎn)量，高離子交換能力已證明具有的粒子性能，并且具有低的金屬萃取物和更少的晶圓上粒子。

saes凈化器AT 2 nm 凈化器一體式凈化過濾器為腐蝕性溶劑提供凈化，具有的顆粒保留和金屬去除效率。

2 nm 截留率 PTFE 膜針對腐蝕性化學(xué)應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化，的金屬去除層，大程度發(fā)揮金屬去除能力，長時(shí)間維持凈化性能，一體化設(shè)備可高效去除顆粒和金屬，減少占地面積

全氟聚合物材料可實(shí)現(xiàn)凈化UCM5P優(yōu)化清潔方式，安裝后可快速啟動，靈活的設(shè)備組合包括墨盒以及小型和大型一次性格式。

saes凈化器LS2 溶劑凈化器大限度地提高光化學(xué)制造中使用的各種光化學(xué)溶劑和原材料的金屬去除效率。新功能可使某些化學(xué)品的金屬去除率超過 99%清潔度的提高創(chuàng)造了清潔的基質(zhì)，從而縮短了過濾器的調(diào)節(jié)時(shí)間優(yōu)化的形態(tài)延長了過濾器的使用壽命，應(yīng)用證明在常用的光化學(xué)溶劑中有效。

saes凈化器液體過濾器外殼具有多種性能和操作員安全優(yōu)勢。聚合物外殼或帶有 PTFE 襯里的外殼通常用于清潔度要求較高的應(yīng)用以及對金屬滲入工藝材料更敏感的應(yīng)用。不銹鋼外殼通常用于高壓、高溫應(yīng)用。控制工藝流中的污染物是提高運(yùn)營效率和推動技術(shù)進(jìn)步的重要方法。我們提供各種膜和介質(zhì)，saes凈化器每個(gè)制造環(huán)境的化學(xué)兼容性和工藝條件。這些過濾器為 5 nm 及以下節(jié)點(diǎn)而設(shè)計(jì)，對小污染物的保留進(jìn)行了優(yōu)化，并降低了晶圓上的缺陷率，同時(shí)提供過濾性能。UPE 膜可高效去除細(xì)小污染物，降低晶圓缺陷的可能性，優(yōu)化的流速可實(shí)現(xiàn)對小污染物的高保留，而不會影響生產(chǎn)率；saes凈化器采用我們新的 UPE 清潔工藝過濾工藝清潔度要求包括 10 英寸和 20 英寸濾芯以及一次配置達(dá)到您的應(yīng)用需求。