EVOCHEM薄膜產(chǎn)品-疏水材料和濺射靶材

一、EVOCHEM 公司

EVOCHEM Advanced Materials GmbH 自豪地推出其新的產(chǎn)品組合 - 涵蓋純金屬和超純金屬，旨在滿足行業(yè)的研發(fā)需求。

產(chǎn)品組合涵蓋各種蒸發(fā)材料和配件、高效濺射靶材、晶體監(jiān)測(cè)等。

EVOCHEM Advanced Materials 為薄膜應(yīng)用提供大且全面的材料系列，包括光學(xué)和配件、磨損和裝飾涂層、微電子和半導(dǎo)體、光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、顯示器和太陽(yáng)能電池。

濺射靶材，包括濺射靶材鍵合和回收

蒸發(fā)材料， 提供 60 多種蒸發(fā)材料

PVD 消耗品， 坩堝、舟和細(xì)絲

在 6MHz 和 5MHz 下監(jiān)測(cè) Au、Ag ，合金的晶體

蒸發(fā)盤管，為您的金屬化項(xiàng)目

EVOCHEM薄膜產(chǎn)品-疏水材料和濺射靶材為您的個(gè)性化應(yīng)用提供解決方案。高純度蒸發(fā)材料有助于實(shí)現(xiàn)您想要的涂層特性;其優(yōu)化的熔煉性能提高了產(chǎn)量。低噴吐特性允許為關(guān)鍵應(yīng)用提供低缺陷涂層。

我們提供用于濺射設(shè)備大且全面的材料系列，提供流行的幾何形狀（和尺寸），包括環(huán)形、S 型槍和圓形、矩形、三角形和平面目標(biāo)。

EVOCHEM 還提供用于電子束蒸發(fā)器、離子源和熱蒸發(fā)器的組件。產(chǎn)品范圍包括坩堝、舟和細(xì)絲，這些坩堝、舟和細(xì)絲由與蒸發(fā)材料和濺射靶材相同的優(yōu)質(zhì)材料制成。

EVOCHEM 的純金屬和超純金屬新產(chǎn)品組合幾乎包括從鋁到鋯的金屬。這些金屬的數(shù)量和形式范圍很廣，包括粉末、線材、箔、片材、棒材、管材和靶材。提供的純度范圍為 99.00% - 99.999999%。

二、EVOCHEM 薄膜產(chǎn)品

1、 疏水材料-新一代防水防油材料

EVOCHEM的新超疏水產(chǎn)品線（EVOCHEM ETC-TOP，EVOCHEM ETC-PRO，EVOCHEM ETC-PRO UV+ & EVOCHEM ETC-PRO AB+）提供了工藝和薄膜性能。我們開發(fā)了復(fù)雜的材料，可以減少污垢和指紋在表面上的粘附，同時(shí)提高耐磨性。

新的超疏水片劑可以從電阻加熱的船上沉積，也可以通過(guò)使用面涂層襯墊的電子束沉積。

主要產(chǎn)品特點(diǎn)：

  防指紋和防污

  超疏水–疏油–超光滑表面

  適用于幾乎全部基材

EVOCHEM ETC 將表面能降至低，因此具有易于清潔的特性。此外，涂層（例如 AR 層）和基材本身受到非常光滑和耐磨的納米層的保護(hù)。

ETC-產(chǎn)品范圍

產(chǎn)品系列包括ETC-TOP、ETC-PRO、ETC-PRO UV+、ETC-PRO AB+。

EVOCHEM ETC-TOP 代表了我們 ETC 產(chǎn)品系列的入門級(jí)質(zhì)量。高耐磨性和良好的易清潔性能使 ETC-TOP 產(chǎn)品系列成為非常好的疏水表面涂層。

EVOCHEM ETC-PRO 是眼科行業(yè)的專用產(chǎn)品線。高耐磨性和易于清潔的表面使其成為眼科公司的best選擇。我們強(qiáng)大的品牌和也將成為您和您的客戶的關(guān)鍵差異化因素。

EVOCHEM ETC-PRO UV+

EVOCHEM ETC-PRO UV+ 是我們的納米涂層產(chǎn)品線，具有更高的耐氣候要求。ETC-PRO UV+ 顯著提高了紫外線照射下的耐污性和耐化學(xué)性 - 同時(shí)保持高度光滑的表面。即使在條件下（600 小時(shí) QUV 和 990 小時(shí)氙弧燈），PRO UV+ 涂層物質(zhì)的接觸角也能保持在 >100°。

EVOCHEM ETC-PRO AB+

EVOCHEM ETC-PRO Abrasion+ 是我們的疏水應(yīng)用，在整個(gè)產(chǎn)品線中具有高的耐用性和光滑性。專用于滿足對(duì)優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品和基材的高要求。ETC-PRO AB+ 涂層基材可實(shí)現(xiàn) >116°的水接觸角。ETC-PRO AB+ 是具有性能要求的納米涂層的即用型應(yīng)用。

EVOCHEM ETC 片劑非常易于處理以進(jìn)行沉積。可以從各種電阻加熱舟（由 Mo 或 Ta 制成）以及間接電子束加熱進(jìn)行沉積。

EVOCHEM 片劑和載體的設(shè)計(jì)和制造均以實(shí)現(xiàn)性能。物理特性允許穩(wěn)定和受控的涂層工藝，從而實(shí)現(xiàn)每次涂層運(yùn)行的大產(chǎn)量。

EVOCHEM ETC 可以從電阻加熱的舟中蒸發(fā)，也可以通過(guò)間接電子束加熱蒸發(fā)。蒸發(fā)溫度范圍為 400 - 800°C（建議 600°C）。將 EVOCHEM ETC 涂布到氧化膜上可獲得最佳效果，尤其是在 SiO2 薄膜（AR 涂層的頂層）上。

應(yīng)用： EVOCHEM ETC-TOP、EVOCHEM ETC-PRO、EVOCHEM ETC-PRO UV+ 和 EVOCHEM ETC-Pro AB+ 可作為即用型片劑提供，用于熱氣相沉積和電子束工藝，使用面涂層襯墊?；蛘撸繉涌梢酝ㄟ^(guò)濕化學(xué)工藝（浸漬、噴涂、鼓注）完成 - ETC-LIQUID 和 ETC-METAL-LIQUID。

作用方式：ETC 的一端與其分子鏈的一端形成共價(jià)、高度穩(wěn)定的氧化物表面（例如 SiO2），而另一端（全氟化）則遠(yuǎn)離表面對(duì)齊。因此，ETC 將表面能降至低，因此具有易于清潔的特性。此外，涂層（例如 AR 層）和基材本身受到非常光滑和耐磨的納米層的保護(hù)。EVOCHEM 的新產(chǎn)品組合已經(jīng)符合最新的立法要求，其中產(chǎn)品或整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中均不存在全氟辛烷磺酸 （PFOS） 和全氟辛酸 （PFOA）。

性能： 該材料通過(guò)氣相沉積施加在 SiO2 層上，提供 117°的水接觸角。在整個(gè)測(cè)試過(guò)程中，即使在 1 kg 壓力下循環(huán) 8000 次后，接觸角也不會(huì)低于 105°。ETC-LIQUID - 為手機(jī)和觸摸顯示器開發(fā) - 已顯示出更高的耐磨性。盡管表面粗糙度降低了約 85%，但鏡片的成型可以很容易地進(jìn)行，而無(wú)需對(duì)生產(chǎn)過(guò)程進(jìn)行任何改變。研磨后，多項(xiàng)測(cè)試表明涂層松弛，表面沒(méi)有留下“鬼痕"。

綠色生產(chǎn)：藥丸以泡罩包裝提供，每單位 12 片。每個(gè)包裝的保質(zhì)期為 6 個(gè)月。此外，我們的載體片劑可以重復(fù)使用大約 10 倍，從而進(jìn)一步減少浪費(fèi)和成本。

EVOCHEM 在制造過(guò)程中不使用或故意添加 PFOA、其鹽類和 PFOA 相關(guān)化合物。因此，EVOCHEM 認(rèn)為此類物質(zhì)未包含在其產(chǎn)品中。EVOCHEM 有一個(gè)系統(tǒng)，可以定期檢查其產(chǎn)品代表性樣品中 PFOA、其鹽類和 PFOA 相關(guān)化合物的含量，并可以確認(rèn)這些樣品符合修訂后的 （EU） No 2020/784 法規(guī)。

2、濺射靶材

們提供大且全面的濺射靶材系列。提供流行的幾何形狀（和尺寸），包括環(huán)形、S 型槍和圓形、矩形、三角形和平面目標(biāo)。

大多數(shù)濺射靶材可以制造成各種形狀和尺寸。單件結(jié)構(gòu)的尺寸存在一些技術(shù)限制。在這種情況下，可以產(chǎn)生多段目標(biāo)，其中各個(gè)段通過(guò)對(duì)接或斜面接頭連接在一起。

濺射靶材有多種成分、各種純度水平可供選擇，使我們的客戶能夠?qū)胁呐c其特定要求相匹配。

與電子束或熱蒸發(fā)相比，濺射沉積具有可重復(fù)性和更簡(jiǎn)單的過(guò)程自動(dòng)化等優(yōu)點(diǎn)。已經(jīng)開發(fā)了濺射技術(shù)的多種變體。通過(guò)氧化/氮化濺射金屬離子，可以從金屬濺射靶材上沉積光學(xué)薄膜，以沉積所需成分的氧化物或氮化物薄膜層。

直流磁控濺射是用于導(dǎo)電金屬靶材的技術(shù)。氧化物（絕緣）濺射靶材可以通過(guò)射頻濺射進(jìn)行濺射，但速率較低。幾乎任何材料合金、混合物、純金屬、氧化物、氮化物、硼化物、碳化物都可以作為濺射靶材提供。

EVOCHEM 提供各種高純度金屬濺射靶材– 純度高達(dá) 99.9999%，包括鋁，銻，硼，碳，銪等，可根據(jù)客戶需求提供。

EVOCHEM 的產(chǎn)品包含各種氧化物濺射靶材，針對(duì)濺射工藝的要求進(jìn)行了優(yōu)化。我們的氧化物濺射靶材為光學(xué)鍍膜工程師提供了更好的產(chǎn)量、工藝穩(wěn)定性和更大的設(shè)計(jì)自由度。

EVOCHEM 提供廣泛的化合物和混合物 – 適合高、中、低折射率薄膜的應(yīng)用和性能。

物理氣相沉積工藝 （PVD 工藝） 是一種沉積工藝，其中蒸發(fā)材料以原子的形式從固體源蒸發(fā)，并以蒸汽的形式通過(guò)真空或低壓（或等離子體）環(huán)境傳輸?shù)秸羝奂幕摹?/p>

PVD 工藝可用于使用反應(yīng)沉積工藝沉積元素（蒸發(fā)材料）和合金的薄膜。真空沉積是一種 PVD 工藝，其中來(lái)自熱汽化源的蒸發(fā)材料到達(dá)基板，與氣體分子幾乎沒(méi)有碰撞。真空沉積用于形成光學(xué)干涉涂層、鏡面涂層、裝飾涂層、導(dǎo)電薄膜（也稱為 TCO 薄膜、ITO）、耐磨涂層和防腐蝕涂層。

3、高品質(zhì)的蒸發(fā)材料

EVOCHEM 全面的蒸發(fā)材料產(chǎn)品組合為您的個(gè)性化應(yīng)用提供解決方案。高純度蒸發(fā)材料有助于實(shí)現(xiàn)您想要的涂層特性;其優(yōu)化的熔煉性能提高了產(chǎn)量。低噴吐特性允許為關(guān)鍵應(yīng)用提供低缺陷涂層。

生產(chǎn)能力使我們能夠定制制造任何所需的形狀和純度，數(shù)量從幾克到幾百公斤不等。使用專有涂層機(jī)進(jìn)行持續(xù)的質(zhì)量測(cè)試和控制，可實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)過(guò)程。

我們的蒸發(fā)材料代表了當(dāng)今好的涂層材料，這些材料經(jīng)過(guò)加工或?qū)ｉT開發(fā)，以滿足科學(xué)實(shí)驗(yàn)、產(chǎn)品和工藝開發(fā)或全面生產(chǎn)的苛刻要求。

蒸發(fā)材料均隨附與所提供批號(hào)相關(guān)的相應(yīng)材料數(shù)據(jù)表 （MSDS）、RoHS 證書和分析證書 （COA）。

我們的產(chǎn)品范圍包括 60 多種蒸發(fā)材料，包括混合物和物質(zhì)，以及氟化物、氧化物、硫化物和金屬，以顆粒、片劑或圓盤形式提供。

EVOCHEM還提供PVD 耗材等。